中国专利原来分三个种类:发明,实用新型,外观设计。2001年10月1日起增加了“集成电路布图设计”。 大的原则是:
关于产品的形状、图案、色彩或者其结合所作出的富有美感的新设计申请外观设计专利;产品的形状、构造或者其结合所提出的新技术方案,小改进申请实用新型专利,大创新申请发明专利,而涉及方法、成分、系统的新技术方案只能申请发明专利。
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